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  1. Artikel ; Online: Conformal High-Aspect-Ratio Solid Electrolyte Thin Films for Li-Ion Batteries by Atomic Layer Deposition.

    Madadi, Milad / Heikkinen, Mari / Philip, Anish / Karppinen, Maarit

    ACS applied electronic materials

    2024  Band 6, Heft 3, Seite(n) 1574–1580

    Abstract: Lithium phosphorus oxynitride (LiPON) is a state-of-the-art solid electrolyte material for thin-film microbatteries. These applications require conformal thin films on challenging 3D surface structures, and among the advanced thin-film deposition ... ...

    Abstract Lithium phosphorus oxynitride (LiPON) is a state-of-the-art solid electrolyte material for thin-film microbatteries. These applications require conformal thin films on challenging 3D surface structures, and among the advanced thin-film deposition techniques, atomic layer deposition (ALD) is believed to stand out in terms of producing appreciably conformal thin films. Here we quantify the conformality (i.e., the evenness of deposition) of thin ALD-grown LiPON films using lateral high-aspect-ratio test structures. Two different lithium precursors, lithium
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2024-03-08
    Erscheinungsland United States
    Dokumenttyp Journal Article
    ISSN 2637-6113
    ISSN (online) 2637-6113
    DOI 10.1021/acsaelm.3c01565
    Datenquelle MEDical Literature Analysis and Retrieval System OnLINE

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  2. Artikel ; Online: Gas-phase deposition of di- and tetra-lithium salts of 2,5-dihydroxyterephthalic acid.

    Heiska, Juho / Karppinen, Maarit

    Dalton transactions (Cambridge, England : 2003)

    2022  Band 51, Heft 11, Seite(n) 4246–4251

    Abstract: Thin films of two ambipolar lithium-organic electrode materials, ... ...

    Abstract Thin films of two ambipolar lithium-organic electrode materials, Li
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2022-03-15
    Erscheinungsland England
    Dokumenttyp Journal Article
    ZDB-ID 1472887-4
    ISSN 1477-9234 ; 1364-5447 ; 0300-9246 ; 1477-9226
    ISSN (online) 1477-9234 ; 1364-5447
    ISSN 0300-9246 ; 1477-9226
    DOI 10.1039/d2dt00055e
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  3. Artikel: Excitation Wavelength Engineering through Organic Linker Choice in Luminescent Atomic/Molecular Layer Deposited Lanthanide-Organic Thin Films.

    Ghazy, Amr / Lastusaari, Mika / Karppinen, Maarit

    Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society

    2023  Band 35, Heft 15, Seite(n) 5988–5995

    Abstract: We demonstrate multiple roles for the organic linker in luminescent lanthanide-organic thin films grown with the strongly emerging atomic/molecular layer deposition technique. Besides rendering the hybrid thin film mechanically flexible and keeping the ... ...

    Abstract We demonstrate multiple roles for the organic linker in luminescent lanthanide-organic thin films grown with the strongly emerging atomic/molecular layer deposition technique. Besides rendering the hybrid thin film mechanically flexible and keeping the lanthanide nodes at a distance adequate to avoid concentration quenching, the organic moieties can act as efficient sensitizers for the lanthanide luminescence. We investigate six different aromatic organic precursors in combination with Eu
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2023-07-17
    Erscheinungsland United States
    Dokumenttyp Journal Article
    ZDB-ID 1500399-1
    ISSN 1520-5002 ; 0897-4756
    ISSN (online) 1520-5002
    ISSN 0897-4756
    DOI 10.1021/acs.chemmater.3c00955
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  4. Artikel ; Online: Atomic/molecular layer deposition of europium-organic thin films on nanoplasmonic structures towards FRET-based applications.

    Ghazy, Amr / Ylönen, Jonas / Subramaniyam, Nagarajan / Karppinen, Maarit

    Nanoscale

    2023  Band 15, Heft 38, Seite(n) 15865–15870

    Abstract: We present a novel atomic/molecular layer deposition (ALD/MLD) process for europium-organic thin films based on Eu(thd) ...

    Abstract We present a novel atomic/molecular layer deposition (ALD/MLD) process for europium-organic thin films based on Eu(thd)
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2023-10-05
    Erscheinungsland England
    Dokumenttyp Journal Article
    ZDB-ID 2515664-0
    ISSN 2040-3372 ; 2040-3364
    ISSN (online) 2040-3372
    ISSN 2040-3364
    DOI 10.1039/d3nr04094a
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  5. Artikel ; Online: Centrosymmetric to non-centrosymmetric transition in the Ca

    Albrecht, Elisabeth K / Siponkoski, Tuomo / Rautama, Eeva-Leena / Karppinen, Maarit / Karttunen, Antti J

    Dalton transactions (Cambridge, England : 2003)

    2024  Band 53, Heft 14, Seite(n) 6282–6288

    Abstract: We have used high-pressure synthesis to synthesize samples of ... ...

    Abstract We have used high-pressure synthesis to synthesize samples of Ca
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2024-04-02
    Erscheinungsland England
    Dokumenttyp Journal Article
    ZDB-ID 1472887-4
    ISSN 1477-9234 ; 1364-5447 ; 0300-9246 ; 1477-9226
    ISSN (online) 1477-9234 ; 1364-5447
    ISSN 0300-9246 ; 1477-9226
    DOI 10.1039/d4dt00360h
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  6. Artikel ; Online: Introduction to

    Morris, Russell E / Karppinen, Maarit / Ceroni, Paola

    Dalton transactions (Cambridge, England : 2003)

    2022  Band 51, Heft 28, Seite(n) 10634

    Mesh-Begriff(e) Europe ; Molecular Weight
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2022-07-19
    Erscheinungsland England
    Dokumenttyp Editorial
    ZDB-ID 1472887-4
    ISSN 1477-9234 ; 1364-5447 ; 0300-9246 ; 1477-9226
    ISSN (online) 1477-9234 ; 1364-5447
    ISSN 0300-9246 ; 1477-9226
    DOI 10.1039/d2dt90099h
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  7. Artikel: Atomic and Molecular Layer Deposition of Alkali Metal Based Thin Films

    Madadi, Milad / Heiska, Juho / Multia, Jenna / Karppinen, Maarit

    ACS applied materials & interfaces. 2021 Nov. 26, v. 13, no. 48

    2021  

    Abstract: Atomic layer deposition (ALD) is the fastest growing thin-film technology in microelectronics, but it is also recognized as a promising fabrication strategy for various alkali-metal-based thin films in emerging energy technologies, the spearhead ... ...

    Abstract Atomic layer deposition (ALD) is the fastest growing thin-film technology in microelectronics, but it is also recognized as a promising fabrication strategy for various alkali-metal-based thin films in emerging energy technologies, the spearhead application being the Li-ion battery. Since the pioneering work in 2009 for Li-containing thin films, the field has been rapidly growing and also widened from lithium to other alkali metals. Moreover, alkali-metal-based metal–organic thin films have been successfully grown by combining molecular layer deposition (MLD) cycles of the organic molecules with the ALD cycles of the alkali metal precursor. The current literature describes already around 100 ALD and ALD/MLD processes for alkali-metal-bearing materials. Interestingly, some of these materials cannot even be made by any other synthesis route. In this review, our intention is to present the current state of research in the field by (i) summarizing the ALD and ALD/MLD processes so far developed for the different alkali metals, (ii) highlighting the most intriguing thin-film materials obtained thereof, and (iii) addressing both the advantages and limitations of ALD and MLD in the application space of these materials. Finally, (iv) a brief outlook for the future perspectives and challenges of the field is given.
    Schlagwörter energy ; lithium ; lithium batteries
    Sprache Englisch
    Erscheinungsverlauf 2021-1126
    Umfang p. 56793-56811.
    Erscheinungsort American Chemical Society
    Dokumenttyp Artikel
    ISSN 1944-8252
    DOI 10.1021/acsami.1c17519
    Datenquelle NAL Katalog (AGRICOLA)

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  8. Artikel ; Online: Low-temperature ALD/MLD growth of alucone and zincone thin films from non-pyrophoric precursors.

    Philip, Anish / Mai, Lukas / Ghiyasi, Ramin / Devi, Anjana / Karppinen, Maarit

    Dalton transactions (Cambridge, England : 2003)

    2022  Band 51, Heft 38, Seite(n) 14508–14516

    Abstract: The combined atomic/molecular layer deposition (ALD/MLD) technique is emerging as a state-of-the-art synthesis route for new metal-organic thin-film materials with a multitude of properties by combining those of the inorganic and the organic material. A ... ...

    Abstract The combined atomic/molecular layer deposition (ALD/MLD) technique is emerging as a state-of-the-art synthesis route for new metal-organic thin-film materials with a multitude of properties by combining those of the inorganic and the organic material. A major part of the studies so far reported have focused on aluminum or zinc alkyls, so-called alucone and zincone films, typically grown from trimethyl aluminum (TMA) or diethyl zinc (DEZ) as the metal-bearing precursor, and a simple aliphatic bi-functional alcohol molecule such as ethylene glycol (EG) as the organic precursor. However, these common precursors possess certain disadvantages: both TMA and DEZ are pyrophoric, DEZ being additionally thermally unstable, while EG has a strong tendency for various unideal reaction modes. Here we report novel ALD/MLD processes for alucone and zincone films based on non-pyrophoric bis-diisopropylamido-[3-(
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2022-10-04
    Erscheinungsland England
    Dokumenttyp Journal Article
    ZDB-ID 1472887-4
    ISSN 1477-9234 ; 1364-5447 ; 0300-9246 ; 1477-9226
    ISSN (online) 1477-9234 ; 1364-5447
    ISSN 0300-9246 ; 1477-9226
    DOI 10.1039/d2dt02279f
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  9. Artikel ; Online: Nanoporous Metal-Organic Framework Thin Films Prepared Directly from Gaseous Precursors by Atomic and Molecular Layer Deposition: Implications for Microelectronics.

    Multia, Jenna / Kravchenko, Dmitry E / Rubio-Giménez, Víctor / Philip, Anish / Ameloot, Rob / Karppinen, Maarit

    ACS applied nano materials

    2023  Band 6, Heft 2, Seite(n) 827–831

    Abstract: Atomic/molecular layer deposition (ALD/MLD) allows for the direct gas-phase synthesis of crystalline metal-organic framework (MOF) thin films. Here, we show for the first time using krypton and methanol physisorption measurements that ALD/MLD-fabricated ... ...

    Abstract Atomic/molecular layer deposition (ALD/MLD) allows for the direct gas-phase synthesis of crystalline metal-organic framework (MOF) thin films. Here, we show for the first time using krypton and methanol physisorption measurements that ALD/MLD-fabricated copper 1,4-benzenedicarboxylate (Cu-BDC) ultrathin films possess accessible porosity matching that of the corresponding bulk MOF.
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2023-01-10
    Erscheinungsland United States
    Dokumenttyp Journal Article
    ISSN 2574-0970
    ISSN (online) 2574-0970
    DOI 10.1021/acsanm.2c04934
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  10. Artikel ; Online: Role of Anionic Backbone in NHC-Stabilized Coinage Metal Complexes: New Precursors for Atomic Layer Deposition.

    Boysen, Nils / Philip, Anish / Rogalla, Detlef / Karppinen, Maarit / Devi, Anjana

    Chemistry (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)

    2022  Band 28, Heft 16, Seite(n) e202103798

    Abstract: Cu and Ag precursors that are volatile, reactive, and thermally stable are currently of high interest for their application in atomic-layer deposition (ALD) of thin metal films. In pursuit of new precursors for coinage metals, namely Cu and Ag, a series ... ...

    Abstract Cu and Ag precursors that are volatile, reactive, and thermally stable are currently of high interest for their application in atomic-layer deposition (ALD) of thin metal films. In pursuit of new precursors for coinage metals, namely Cu and Ag, a series of new N-heterocyclic carbene (NHC)-based Cu
    Sprache Englisch
    Erscheinungsdatum 2022-02-15
    Erscheinungsland Germany
    Dokumenttyp Journal Article
    ZDB-ID 1478547-X
    ISSN 1521-3765 ; 0947-6539
    ISSN (online) 1521-3765
    ISSN 0947-6539
    DOI 10.1002/chem.202103798
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